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半導體潔凈室氣體分析監測系統通過(guò)污染物源頭控制、傳播控制，實(shí)時(shí)監控污染物濃度并結合多級過(guò)濾器以及新風(fēng)系統來(lái)實(shí)現，持久監測AMC濃度，有助于掌握污染物源頭、穩定生產(chǎn)、預防過(guò)濾器突發(fā)性壽命減少等。

煤自燃束管監測特點(diǎn)：粉塵過(guò)濾器、單管、束管、分路箱、抽?泵、?體采樣控制柜、監控微機、懸臂梁?克風(fēng)光聲光譜多?體分析儀、熱導多?體分析儀、打印輸出設備、網(wǎng)卡、系統軟件組成。

EDK 6900P系列TDL激光微量便攜氣體分析儀高靈敏度和寬的動(dòng)態(tài)量程，是可調諧半導體激光器光譜（TDLS）技術(shù)的基本特性，可用于測量sub-ppm到%范圍的氣體。

TDL激光微量在線(xiàn)氣體分析儀基于非色散紫外吸收光譜NDUV技術(shù)來(lái)對氫氣中Cl2進(jìn)行分析。NDUV非色散紫外吸收光譜技術(shù)是確定復雜氣體混合物中濃度的一種普遍方法。

空氣分子污染物監測系統快速監測、報警、極低濃度測量、寬測量區域、多氣體的高靈敏響應等是半導體工業(yè)要求之一。深紫外光刻工藝特別關(guān)注氨、胺類(lèi)、N-甲基毗咯烷酮NMP、酸類(lèi)等濃度測量，當這些氣體與化學(xué)放大光刻膠反生反應 時(shí)，將深深的影響半導體器件質(zhì)量。